一、掃描電子顯微鏡的工作原理
掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點(diǎn)掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆粒,成像信號(hào)可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是最主要的成像信號(hào)。由電子槍發(fā)射的能量為5~35keV 的電子,以其交叉斑作為電子源,經(jīng)二
級(jí)聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強(qiáng)度和束斑直徑的微細(xì)電子束,在掃描線圈驅(qū)動(dòng)下,于試樣表面按一定時(shí)間、空間順序作柵網(wǎng)式掃描。聚焦電子束與試樣相互作用,產(chǎn)生二次電子發(fā)射(以及其它物理信號(hào)),二次電子
發(fā)射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號(hào)被探測(cè)器收集轉(zhuǎn)換成電訊號(hào),經(jīng)視頻放大后輸入到顯像管柵極,調(diào)制與入射電子束同步掃描的顯像管亮度,得到反映試樣表面形貌的二次電子像。
二、掃描電鏡的特點(diǎn)
1.可以觀察直徑為0 ~30mm的大塊試樣(在半導(dǎo)體工業(yè)可以觀察更大直徑),制樣方法簡(jiǎn)單。
2.場(chǎng)深大(三百倍于光學(xué)顯微鏡),適用于粗糙表面和斷口的分析觀察;圖像富有立體感、真實(shí)感、易于識(shí)別和解釋。
3.放大倍數(shù)變化范圍大,一般為15 ~200000 倍,對(duì)于多相、多組成的非均勻材料便于低倍下的普查和高倍下的觀察分析。
4.具有相當(dāng)高的分辨率,一般為3.5 ~6nm。
5.可以通過(guò)電子學(xué)方法有效地控制和改善圖像的質(zhì)量,如通過(guò)調(diào)制可改善圖像反差的寬容度,使圖像各部分亮暗適中。采用雙放大倍數(shù)裝置或圖像選擇器,可在熒光屏上同時(shí)觀察不同放大倍數(shù)的圖像或不同形式的圖像。
6.可進(jìn)行多種功能的分析。與X射線譜儀配接,可在觀察形貌的同時(shí)進(jìn)行微區(qū)成分分析;配有光學(xué)顯微鏡和單色儀等附件時(shí),可觀察陰極熒光圖像和進(jìn)行陰極熒光光譜分析等。
7.可使用加熱、冷卻和拉伸等樣品臺(tái)進(jìn)行動(dòng)態(tài)試驗(yàn),觀察在不同環(huán)境條件下的相變及形態(tài)變化等。
三、掃描電鏡的主要結(jié)構(gòu)
1.電子光學(xué)系統(tǒng):電子槍;聚光鏡(第一、第二聚光鏡和物鏡);物鏡光闌。
2.掃描系統(tǒng):掃描信號(hào)發(fā)生器;掃描放大控制器;掃描偏轉(zhuǎn)線圈。
3.信號(hào)探測(cè)放大系統(tǒng):探測(cè)二次電子、背散射電子等電子信號(hào)。
4.圖象顯示和記錄系統(tǒng):早期SEM采用顯象管、照相機(jī)等。數(shù)字式SEM采用電腦系統(tǒng)進(jìn)行圖象顯示和記錄管理。
5.真空系統(tǒng):真空度高于10-4 Torr 。常用:機(jī)械真空泵、擴(kuò)散泵、渦輪分子泵。
6.電源系統(tǒng):高壓發(fā)生裝置、高壓油箱。